据科技新闻媒体ZDNet 9月28日消息，三星电子正在加快其位于韩国平泽第五园区（P5）的首条量产生产线（Ph1）的建设。
报道称，三星电子正与主要设备供应商商讨，将Ph1设备预计部署时间从原定的2027年第三季度提前至第二季度。此举被解读为三星电子为应对人工智能领域对高价值DRAM和NAND闪存的激增需求，迅速确保产能的决心。
P5是三星电子的下一代半导体生产基地，目标于2028年投产。
另据韩国SME Daily报道，SK海力士已开始在日本建设存储半导体工厂，这距离公司此前称“尚未决定”仅一个月。
28日，SK海力士已开始在日本东北地区开展半导体晶圆厂的前期地基工程。内部人士称，目前还不清楚是独立工厂还是SK海力士与Kioxia的合资企业，但确实“已经开始进行基础设施建设”。
报道指出，直到一个月前，SK海力士还表示正在“审查”相关事项，关于其在日本的存储半导体工厂“尚未做出具体决定”。如果属实，这意味着“建厂竞赛”正在加快。
（文章来源：中新经纬）
文章来源：中新经纬
原标题：韩国两大存储芯片巨头，突然加速建厂
