先导基电：目前全球离子注入机的发展有两个方向

证券日报网4月14日讯 ，先导基电在接受调研者提问时表示，目前，全球离子注入机的发展有两个方向。一方面，是朝着更先进工艺方向发展，对离子注入机的要求是更精准地控制和更好的颗粒污染控制。其中，颗粒污染控制在未来先进工艺中要求极高。针对这一领域，凯世通开发了面向先进工艺的低能大束流离子注入机，目前已经送至客户端开始进行验证，产品在颗粒污染控制、元素污染控制等方面提升显著。另外一方面，离子注入机朝着多元化应用领域的方向发展，核心驱动力来自半导体器件制程的不断微缩和新兴材料衍生出新的需求。凯世通将围绕离子注入技术广泛布局，做精做深，实现全系列离子注入机的布局和产业化。

（文章来源：证券日报）